光刻膠組合物及用它形成薄膜圖案和陣列基板的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010585054.4 申請日 -
公開（公告）號 CN111766762A 公開（公告）日 2020-10-13
申請公布號 CN111766762A 申請公布日 2020-10-13
分類號 G03F7/004;G03F7/20;G03F7/32 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 徐宏;何向明;王倩倩 申請（專利權(quán)）人 北京華睿新能動(dòng)力科技發(fā)展有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京華進(jìn)京聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 王勤思
地址 214142 江蘇省無錫市新吳區(qū)菱湖大道200-11號中國傳感網(wǎng)國際創(chuàng)新園E2-503
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種光刻膠組合物，包括：納米粒子，所述納米粒子包括金屬氧化物內(nèi)核和與所述金屬氧化物內(nèi)核配位的修飾基團(tuán)，其分子通式為M6O4(OH)4XnY12?n，M為金屬元素，X和Y為所述修飾基團(tuán)，且為含有雙鍵的有機(jī)基團(tuán)，0≤n≤12；巰基化合物；以及溶劑。本發(fā)明進(jìn)一步涉及用所述光刻膠組合物形成薄膜圖案和陣列基板的方法。