一種循環(huán)冷卻系統(tǒng)及長晶爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111397595.5 申請日 -
公開（公告）號 CN114086245A 公開（公告）日 2022-02-25
申請公布號 CN114086245A 申請公布日 2022-02-25
分類號 C30B23/00（2006.01）I;C30B29/36（2006.01）I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 李帥;劉家朋;潘亞妮;邵紅;李碩;石志強 申請（專利權）人 山東天岳先進科技股份有限公司
代理機構 北京君慧知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 劉曉佳
地址 250118山東省濟南市槐蔭區(qū)天岳南路99號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種循環(huán)冷卻系統(tǒng)及長晶爐，尤其涉及一種用于碳化硅生長的循環(huán)冷卻系統(tǒng)及長晶爐，所述循環(huán)冷卻系統(tǒng)包括：循環(huán)管路；冷卻組件，所述冷卻組件包括冷卻腔、緩沖腔、第一冷卻介質(zhì)、第二冷卻介質(zhì)和第三冷卻介質(zhì)，所述緩沖腔及待冷卻件分別與所述循環(huán)管路相連，且所述循環(huán)管路、緩沖腔與所述待冷卻件共同形成閉合回路，所述冷卻腔與所述緩沖腔能夠相連通；所述第一冷卻介質(zhì)在所述冷卻腔內(nèi)將所述第二冷卻介質(zhì)冷卻，冷卻后的第二冷卻介質(zhì)繼續(xù)將所述第三冷卻介質(zhì)冷卻，所述第三冷卻介質(zhì)在所述閉合回路之間循環(huán)，以將所述待冷卻件導熱體冷卻。該循環(huán)冷卻系統(tǒng)能夠保證熱量的均勻傳遞，其用于長晶爐中，有利于保持長晶爐中的熱場穩(wěn)定，可以提高長晶質(zhì)量。