一種晶圓ETCH制程設(shè)備靜電吸盤的洗凈再生方法及裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110498080.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113299532A | 公開(公告)日 | 2021-08-24 |
申請公布號 | CN113299532A | 申請公布日 | 2021-08-24 |
分類號 | H01J37/32(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/10(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 于海平;賀賢漢;蔣立峰;張正偉;徐慶斌 | 申請(專利權(quán))人 | 上海富樂德智能科技發(fā)展有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海申浩律師事務(wù)所 | 代理人 | 趙建敏 |
地址 | 200444上海市寶山區(qū)山連路181號10幢 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種晶圓ETCH制程設(shè)備靜電吸盤的洗凈再生方法,包括:步驟一,對靜電吸盤的陽極氧化鋁底座表面處理;步驟二,對靜電吸盤的陽極氧化鋁底座表面保護;步驟三,有機溶劑浸泡靜電吸盤;步驟四,對靜電吸盤的氧化鋁陶瓷面打磨;步驟五,雙氧水浸泡靜電吸盤;步驟六,再對靜電吸盤的氧化鋁陶瓷面打磨;步驟七,熱水浸泡靜電吸盤;步驟八,氨水雙氧水浸泡靜電吸盤;步驟九,繼續(xù)對靜電吸盤的氧化鋁陶瓷面打磨;步驟十,用硝氟酸溶液擦拭靜電吸盤的氧化鋁陶瓷面;步驟十一,再用鹽酸雙氧水溶液擦拭靜電吸盤的氧化鋁陶瓷面;步驟十二,超聲波清洗靜電吸盤;步驟十三,去除保護并用有機溶劑擦拭;步驟十四,無塵烘箱烘干靜電吸盤。 |
