一種適于中高溫熱利用的太陽能選擇性吸收膜系

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201320057164.9 申請日 -
公開（公告）號 CN203249419U 公開（公告）日 2013-10-23
申請公布號 CN203249419U 申請公布日 2013-10-23
分類號 F24J2/48(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/10(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I 分類 供熱；爐灶；通風;
發(fā)明人 陸衛(wèi);陳飛良;王少偉;俞立明;劉星星;簡明;郭少令;陳效雙;王曉芳 申請（專利權）人 上海德福光電技術有限公司
代理機構 上海新天專利代理有限公司 代理人 郭英
地址 200083 上海市虹口區(qū)玉田路500號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本專利公開了一種適于中高溫熱利用的太陽能選擇性吸收膜系。該太陽能選擇性吸收膜系自下而上依次包括鍍制在金屬基底上的紅外高反射銀薄膜、銅薄膜、鈦鋁氮氧薄膜、氧化鋅錫銻薄膜以及二氧化硅薄膜。本專利的吸收膜系太陽能吸收率大于96%，發(fā)射率小于2%，具有超低發(fā)射率，光熱轉換效率高的特點，同時膜系中的氧化鋅錫銻材料鍍膜速率高，利于提高生產(chǎn)效率。該膜系可廣泛應用于太陽能光熱轉換的集熱器，適合于太陽能熱利用在建筑一體化產(chǎn)品方面的應用，尤其適合于中高溫太陽能熱利用產(chǎn)品的廣泛使用。本專利的吸收膜系可通過工業(yè)化磁控濺射制備方法在大面積基底上連續(xù)鍍制，實現(xiàn)低成本大規(guī)模高效生產(chǎn)。