適于中高溫?zé)崂玫奶?yáng)能選擇性吸收膜系及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201310040103.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN103105011B | 公開(公告)日 | 2015-05-13 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103105011B | 申請(qǐng)公布日 | 2015-05-13 |
分類號(hào) | F24J2/48(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/10(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I | 分類 | 供熱;爐灶;通風(fēng); |
發(fā)明人 | 陸衛(wèi);陳飛良;王少偉;俞立明;劉星星;簡(jiǎn)明;郭少令;陳效雙;王曉芳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海德福光電技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人 | 中國(guó)科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所;上海德福光電技術(shù)有限公司 |
地址 | 200083 上海市虹口區(qū)玉田路500號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種適于中高溫?zé)崂玫奶?yáng)能選擇性吸收膜系及其制備方法。該太陽(yáng)能選擇性吸收膜系自下而上依次包括鍍制在金屬基底上的紅外高反射銀薄膜、銅薄膜、鈦鋁氮氧薄膜、氧化鋅錫銻薄膜以及二氧化硅薄膜。本發(fā)明的吸收膜系太陽(yáng)能吸收率大于96%,發(fā)射率小于2%,具有超低發(fā)射率,光熱轉(zhuǎn)換效率高的特點(diǎn),同時(shí)膜系中的氧化鋅錫銻材料鍍膜速率高,利于提高生產(chǎn)效率。該膜系可廣泛應(yīng)用于太陽(yáng)能光熱轉(zhuǎn)換的集熱器,適合于太陽(yáng)能熱利用在建筑一體化產(chǎn)品方面的應(yīng)用,尤其適合于中高溫太陽(yáng)能熱利用產(chǎn)品的廣泛使用。本發(fā)明的吸收膜系可通過(guò)工業(yè)化磁控濺射制備方法在大面積基底上連續(xù)鍍制,實(shí)現(xiàn)低成本大規(guī)模高效生產(chǎn)。 |
