二極管制備方法及制備設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910507864.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112086369A | 公開(公告)日 | 2020-12-15 |
申請公布號 | CN112086369A | 申請公布日 | 2020-12-15 |
分類號 | H01L21/60(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉林;李濤;袁強;沈新才;曾靜 | 申請(專利權(quán))人 | 領(lǐng)凡新能源科技(北京)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京智晨知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 領(lǐng)凡新能源科技(北京)有限公司 |
地址 | 101407北京市懷柔區(qū)雁棲經(jīng)濟開發(fā)區(qū)樂園大街38號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種二極管制備方法及制備設(shè)備,涉及半導(dǎo)體電子器件領(lǐng)域。所述制備方法包括:提供待焊接件,所述待焊接件包括依次層疊的電極連接片、焊接介質(zhì)和二極管芯片;對所述電極連接片進行第一激光加熱處理以融化所述焊接介質(zhì),實現(xiàn)所述電極連接片與所述二極管芯片的焊接。采用本發(fā)明提供的二極管制備方法及制備設(shè)備,能降低制備過程中對二極管芯片造成損傷的風險。?? |
