低重稀土磁體及制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111121038.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113871122A | 公開(公告)日 | 2021-12-31 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113871122A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-12-31 |
分類號(hào) | H01F1/057(2006.01)I;H01F41/02(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王傳申;彭眾杰;楊昆昆;丁開鴻 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 煙臺(tái)東星磁性材料股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 郭繼艷 |
地址 | 265500山東省煙臺(tái)市福山區(qū)永達(dá)街888號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及釹鐵硼磁體技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種低重稀土磁體及制造方法。低重稀土磁體由釹鐵硼磁體主體合金和低重稀土擴(kuò)散源制備而成,低重稀土擴(kuò)散源化學(xué)式為RxHyM1?x?y,其中R是指Nd,Pr,Ce,La,Ho,Gd中的至少一種,H是指Tb,Dy中的至少一種,M是指Al、Cu、Ga、Ti、Co、Mg、Zn、Sn中至少一種,所述低重稀土擴(kuò)散源結(jié)構(gòu)分布為RH相、RHM相鑲嵌均勻分布。在釹鐵硼磁體主體合金表面涂覆所述低重稀土擴(kuò)散源,并進(jìn)行擴(kuò)散和回火處理,得到低重稀土磁體,磁體晶界結(jié)構(gòu)包括主相、R殼層、過(guò)渡金屬殼層和三角區(qū),本發(fā)明的有益之處是通過(guò)對(duì)磁體成分和低重?cái)U(kuò)散源結(jié)構(gòu)的調(diào)控,實(shí)現(xiàn)矯頑力的大幅提升。 |
