一種微懸臂梁的制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011622766.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112744782A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-05-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112744782A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-04 |
| 分類(lèi)號(hào) | B81C1/00 | 分類(lèi) | 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕; |
| 發(fā)明人 | 高陽(yáng);李春勇;舒凱;仇伯倉(cāng);柯毛龍;徐化勇;馮歐 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 江西銘德半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 彭琰 |
| 地址 | 330000 江西省南昌市南昌小藍(lán)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)富山大道以南、金湖以西 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種微懸臂梁的制備方法，包括：提供一襯底，并在襯底的上表面外延生長(zhǎng)AlXGa1?XAs薄層；在AlXGa1?XAs薄層的上表面旋涂第一光刻膠，并通過(guò)第一光刻掩膜板對(duì)第一光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，得到光刻膠微懸臂梁圖形；以光刻膠微懸臂梁圖形為掩膜，對(duì)AlXGa1?XAs薄層和襯底進(jìn)行刻蝕，并刻穿AlXGa1?XAs薄層且刻蝕部分襯底；將AlXGa1?XAs薄層氧化成Al2O3薄層；在Al2O3薄層和襯底的上表面旋涂第二光刻膠，并對(duì)二光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影，以在Al2O3薄層一側(cè)開(kāi)設(shè)窗口；從窗口處側(cè)向選擇性腐蝕掉所述Al2O3薄層下部的部分襯底材料。本發(fā)明為微懸臂梁提供了一種新的可行制備方法和途徑，主要制備得到以Al2O3作為材料的微懸臂梁結(jié)構(gòu)、并以GaAs材料作為襯底，有效提升微懸臂梁的性能和靈敏性。 |
