一種發(fā)光器件
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201210067680.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102593298A | 公開(公告)日 | 2012-07-18 |
申請公布號 | CN102593298A | 申請公布日 | 2012-07-18 |
分類號 | H01L33/16(2010.01)I;H01L33/20(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陳杰;邁克·亨利肯;潘小和;嘉鼎·斐 | 申請(專利權(quán))人 | 矽光光電科技(上海)有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海信好專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 周榮芳 |
地址 | 201203 上海市浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)張東路1387號51幢 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種發(fā)光器件,其包含具有一個以(100)晶面作為上表面的硅基底。在該上表面具有一個凹槽,凹槽的一部分被限定為硅基底的(111)晶面。該發(fā)光器件包含位于硅基底的其中一個(111)晶面上的GaN晶體結(jié)構(gòu);該GaN晶體結(jié)構(gòu)包含一個非極性平面,及沿該非極性平面設(shè)置的第一表面。該發(fā)光器件還包含發(fā)光層,其位于GaN晶體結(jié)構(gòu)的第一表面上。發(fā)光層具有至少一個含GaN的量子阱。該發(fā)光器件利用非極性和半極性GaN晶體表面作為量子阱基底,提高了發(fā)光效率和光發(fā)射強度,且發(fā)射光高度極化,并能為GaN單晶體提供非常低的缺陷密度,以提高器件的可靠性和使用壽命。 |
