應(yīng)用于燒結(jié)窯內(nèi)的ITO靶材架設(shè)裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201920231117.9 申請日 -
公開（公告）號 CN209584361U 公開（公告）日 2019-11-05
申請公布號 CN209584361U 申請公布日 2019-11-05
分類號 C23C14/34（2006.01）I; C23C14/08（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王雪濤; 李玉新; 宋蕊立 申請（專利權(quán)）人 河北惟新科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 050000 河北省石家莊市高新區(qū)長江大道238號宏昌科技園7號樓一層102、106、107室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種應(yīng)用于燒結(jié)窯內(nèi)的ITO靶材架設(shè)裝置，包括水平設(shè)置在燒結(jié)窯內(nèi)支架上的支撐座，所述支撐座的上端面傾斜設(shè)置，傾斜設(shè)置的支撐座上端面上放置有用于承載ITO靶材坯體的承燒板，承燒板的上端面上勻布有若干條貫穿承燒板前后、用于流過氧氣氣流的溝槽；位于較低端的支撐座傾斜上端面端部設(shè)置有承托承燒板和ITO靶材坯體的擋塊。本實用新型可使氧氣通過水平設(shè)置的溝槽與靶材坯體接觸，提高了透氧率；同時傾斜設(shè)置承燒板可將靶材坯體的重力在水平方向上實現(xiàn)分解，降低了坯體與承燒板之間的摩擦力，有利于靶材坯體的收縮，減少了燒結(jié)時間，提高了靶材坯體的燒結(jié)成品率以及燒結(jié)密度。