一種用于真空磁控濺射鍍膜靶材的邦定裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021118615.1 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212955320U | 公開（公告）日 | 2021-04-13 |
| 申請公布號 | CN212955320U | 申請公布日 | 2021-04-13 |
| 分類號 | C23C14/35(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 丁永灼 | 申請（專利權(quán)）人 | 河北惟新科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州銘恒知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 吳月琴 |
| 地址 | 050035河北省石家莊市裕華區(qū)高新區(qū)長江大道238號宏昌科技園7號樓一層102、106室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種用于真空磁控濺射鍍膜靶材的邦定裝置，包括基座，所述基座上設(shè)有工作孔，所述基座的上端面上設(shè)有四個(gè)呈中心對稱設(shè)置的第一滑動槽，四個(gè)所述第一滑動槽內(nèi)均滑動連接有第一滑動塊，四個(gè)所述第一滑動塊遠(yuǎn)離第一滑動槽的一端均設(shè)有升降槽，四個(gè)所述升降槽內(nèi)均滑動連接有磁柱，四個(gè)所述磁柱遠(yuǎn)離基座的一端均固定連接有固定板，四個(gè)所述磁柱遠(yuǎn)離固定板的一側(cè)壁上均固定連接有彈簧，四個(gè)所述彈簧遠(yuǎn)離磁柱的一端分別固定連接在四個(gè)升降槽的內(nèi)壁上設(shè)置。本實(shí)用新型可以方便的完成不同大小靶材的固定工作，極大的方便了用戶進(jìn)行濺射鍍膜工作。?? |
