金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積大面積氧化鋅透明導(dǎo)電膜反應(yīng)器
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200520025309.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN2775071Y | 公開(kāi)(公告)日 | 2006-04-26 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN2775071Y | 申請(qǐng)公布日 | 2006-04-26 |
分類號(hào) | C23C16/455(2006.01);C23C16/40(2006.01) | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 耿新華;趙穎;薛俊明;仁慧志;魏長(zhǎng)春;張德坤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 昆明鉑陽(yáng)遠(yuǎn)宏能源科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 天津市學(xué)苑有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 | 代理人 | 解松凡 |
地址 | 300071天津市衛(wèi)津路94號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種氧化鋅透明導(dǎo)電膜的制備設(shè)備,特別是用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積法(MOCVD)制備氧化鋅透明導(dǎo)電膜的反應(yīng)器,以便實(shí)現(xiàn)制備氧化鋅透明導(dǎo)電膜的大面積均勻性。 MOCVD法制各氧化鋅透明導(dǎo)電膜,具有無(wú)轟擊,襯底溫度低(~ 150℃)等優(yōu)點(diǎn),特別適合于低溫薄膜太陽(yáng)電池應(yīng)用,對(duì)提高電池效率有重要作用。本實(shí)用新型的技術(shù)方案:這種金屬制備氧化鋅透明導(dǎo)電膜的反應(yīng)器,是在一個(gè)圓柱形反應(yīng)室中設(shè)置加熱絲、勻熱板、二乙基鋅和硼烷布?xì)夤?、水布?xì)夤艿?,其特點(diǎn)在于:二乙基鋅和硼烷布?xì)夤転槭釥?,梳狀分管上布有微孔,水布?xì)夤艹适纸徊鏍?。本新型的有益效果:反?yīng)器結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、造價(jià)低,在不加旋轉(zhuǎn)的情況下,20cm×20cm基片范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)了薄膜不均勻性小于5%。 |
