一種減反射結(jié)構(gòu)體及其制作方法、光學(xué)器件

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111314471.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114019592A 公開（公告）日 2022-02-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN114019592A 申請(qǐng)公布日 2022-02-08
分類號(hào) G02B1/118（2015.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 王興祥;陳文禮;胡漢林;李松華;包悅;趙文廣;劉繼偉;劉文霞;王金華;孫俊偉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 煙臺(tái)睿創(chuàng)微納技術(shù)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 張藝
地址 264006山東省煙臺(tái)市煙臺(tái)開發(fā)區(qū)貴陽大街11號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)公開了一種減反射結(jié)構(gòu)體，包括：基底；位于所述基底的上表面的微結(jié)構(gòu)陣列，所述微結(jié)構(gòu)陣列包括多個(gè)微結(jié)構(gòu)，多個(gè)所述微結(jié)構(gòu)呈不規(guī)則的矩形排列。本申請(qǐng)中的減反射結(jié)構(gòu)體包括基底和設(shè)置在基底上的微結(jié)構(gòu)陣列，由于微結(jié)構(gòu)陣列中多個(gè)微結(jié)構(gòu)呈不規(guī)則的排列，微結(jié)構(gòu)陣列可以使散射光線在空間中均勻分布，所有角度的反射光強(qiáng)均比較小，從而防止減反射結(jié)構(gòu)體表面產(chǎn)生眩光。此外，本申請(qǐng)還提供一種具有上述優(yōu)點(diǎn)的減反射結(jié)構(gòu)體制作方法和光學(xué)器件。