一種用于光柵刻寫的激光擴(kuò)束準(zhǔn)直裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022885373.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214311133U 公開（公告）日 2021-09-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN214311133U 申請(qǐng)公布日 2021-09-28
分類號(hào) G02B27/09（2006.01）I;G02B27/30（2006.01）I;G02B7/02（2021.01）I;G02B7/182（2021.01）I;G02B5/18（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 劉峰;宋立;張心賁 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 長(zhǎng)飛（武漢）光系統(tǒng)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 湖北天領(lǐng)艾匹律師事務(wù)所 代理人 楊建軍
地址 430000湖北省武漢市洪山區(qū)關(guān)山二路四號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種用于光柵刻寫的激光擴(kuò)束準(zhǔn)直裝置，包括底座、Z軸升降系統(tǒng)和滑軌模塊系統(tǒng)。本發(fā)明能夠通過Z軸升降系統(tǒng)和滑軌模塊系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對(duì)包括高斯光斑在內(nèi)的激光光束整形的效果，用以得到可以用于刻寫光柵的均勻光斑。本實(shí)用新型可以有效控制寫柵所需激光的能量分布及形狀大小，使得所刻寫的光柵達(dá)到所需指標(biāo)并不損傷包層，同時(shí)提高邊模抑制比。