一種GaAs基多結(jié)紅光激光器及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910542284.X 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN112117641B 公開(公告)日 2021-10-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN112117641B 申請(qǐng)公布日 2021-10-01
分類號(hào) H01S5/323(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李志虎;張新;朱振;于軍 申請(qǐng)(專利權(quán))人 山東華光光電子股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京華際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 張文杰
地址 250101山東省濟(jì)南市高新區(qū)天辰大街1835號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種GaAs基多結(jié)紅光激光器及其制備方法,所述激光器包括GaAs襯底,所述GaAs襯底上自下而上依次生長(zhǎng)有GaAs低溫緩沖層、第一激光節(jié)、GaInP腐蝕阻擋層和第一GaAs帽層,所述第一激光節(jié)、GaInP腐蝕阻擋層生長(zhǎng)有若干個(gè)發(fā)光層;所述發(fā)光層自下而上包括若干個(gè)隧道結(jié)和第二激光節(jié),所述最接近第一激光節(jié)的隧道結(jié)在第一激光節(jié)上生長(zhǎng),所述第二激光節(jié)在隧道結(jié)上生長(zhǎng);本發(fā)明不僅通過(guò)隧道結(jié)的設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了多節(jié)激光材料的生長(zhǎng),在較小的電流下獲得較大的輸出功率,提高了激光器的發(fā)光功率;同時(shí)由于AlInP上限制層、第二GaAs帽層之間的界面寬帶不連續(xù),本技術(shù)方案引入了(AlxGa1?x)yIn1?P晶格過(guò)渡層,降低電壓,提高器件的可靠性和壽命,具有較高的實(shí)用性。y