周期柵陣的周期長度的測量方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010952617.9 申請日 -
公開（公告）號 CN112050741A 公開（公告）日 2021-07-16
申請公布號 CN112050741A 申請公布日 2021-07-16
分類號 G01B11/02 分類 測量；測試;
發(fā)明人 李紅浪 申請（專利權）人 廣東省廣納科技發(fā)展有限公司
代理機構 上海專利商標事務所有限公司 代理人 鄧曄;張鑫
地址 510700 廣東省廣州市黃埔區(qū)開源大道136號D棟1004室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于對周期陣列結構中的周期柵陣進行測量的測量方法，包括：獲取所述周期陣列結構的圖像并獲取所述圖像的像素間距值；在所述圖像上繪制覆蓋多個所述周期柵陣的測量線；確定所述測量線上至少一部分像素的坐標值和圖像特征值、以及所述測量線的斜率；利用所述坐標值和所述圖像特征值，利用擬合函數來計算得到所述測量線的空間圓頻率；利用所述像素間距值和所述空間圓頻率，來計算得到所述測量線的延伸方向上的測量線周期長度；以及基于所述測量線的斜率、以及所述測量線周期長度來計算所述周期柵陣的實際周期長度。