一種LDMOSFET、制備方法及芯片和電路
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210159453.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114220847A | 公開(公告)日 | 2022-03-22 |
申請公布號 | CN114220847A | 申請公布日 | 2022-03-22 |
分類號 | H01L29/06(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 余山;趙東艷;王于波;陳燕寧;付振;劉芳;王凱;吳波;鄧永峰;劉倩倩;郁文 | 申請(專利權(quán))人 | 北京芯可鑒科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 高英英 |
地址 | 102200北京市昌平區(qū)雙營西路79號院中科云谷園11號樓一層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明實施例提供一種LDMOSFET、制備方法及芯片和電路,所述LDMOSFET包括:襯底,所述襯底上設(shè)有外延層;所述外延層上方依次設(shè)有第一重?fù)诫sN+離子、P型硅、N型硅及第二重?fù)诫sN+離子;所述P型硅中設(shè)有輕摻雜N型離子,所述N型硅中設(shè)有輕摻雜P型離子。所述LDMOSFET不需要高能量離子注入,具有工藝簡單,成本低的特點。 |
