一種多源共蒸發(fā)取樣裝置及多源共蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201822170577.3 申請日 -
公開（公告）號 CN209836285U 公開（公告）日 2019-12-24
申請公布號 CN209836285U 申請公布日 2019-12-24
分類號 C23C14/24;C23C14/54;G01N1/02 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 黃春泉;牙侯固 申請（專利權(quán)）人 華夏易能（廣東）新能源科技有限公司
代理機構(gòu) 北京華夏泰和知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 華夏易能（廣東）新能源科技有限公司
地址 517000 廣東省河源市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)高新二路163號創(chuàng)業(yè)服務(wù)中心三樓309-53室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種多源共蒸發(fā)取樣裝置及多源共蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)，所述多源共蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)包括真空蒸發(fā)腔和設(shè)于所述真空蒸發(fā)腔內(nèi)的至少一個金屬蒸發(fā)源，所述多源共蒸發(fā)取樣裝置包括至少一個取樣單元，所述取樣單元與所述金屬蒸發(fā)源一一對應(yīng)，所述取樣單元設(shè)于所述真空蒸發(fā)腔的外壁，所述取樣單元內(nèi)設(shè)有與所述真空蒸發(fā)腔連通的取樣通道，所述取樣通道的底部設(shè)有載玻片容納槽，所述載玻片容納槽內(nèi)可拆卸地設(shè)有載玻片，所述載玻片與所述取樣通道的軸線垂直。本申請中的多源共蒸發(fā)取樣裝置取樣路徑便捷，取樣速度較快，取樣結(jié)果準確，提高了取樣的質(zhì)量，進而提高了數(shù)據(jù)監(jiān)測的準確性，極大地提高了對金屬蒸發(fā)源的控制質(zhì)量，達到提高鍍膜質(zhì)量的目的。