一種薄膜制備設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201822245710.7 申請日 -
公開（公告）號 CN209836303U 公開（公告）日 2019-12-24
申請公布號 CN209836303U 申請公布日 2019-12-24
分類號 C23C18/00 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 曾雄;惠述偉;張升飛 申請（專利權(quán)）人 華夏易能（廣東）新能源科技有限公司
代理機構(gòu) 北京中政聯(lián)科專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 華夏易能（廣東）新能源科技有限公司;北京暉宏科技有限公司
地址 517000 廣東省河源市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)高新二路163號創(chuàng)業(yè)服務(wù)中心三樓309-5室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種薄膜制備設(shè)備，包括：將注入反應(yīng)液進行化學(xué)沉積反應(yīng)的反應(yīng)槽(10)；設(shè)置在反應(yīng)槽(10)外部的循環(huán)裝置(20)，循環(huán)裝置(20)的一端與反應(yīng)槽(10)底部連通，另一端與反應(yīng)槽(10)上部連通，循環(huán)裝置(20)將經(jīng)反應(yīng)槽(10)上部溢出的反應(yīng)液輸送至外部加熱器加熱，然后經(jīng)反應(yīng)槽(10)底部的注液口注入該反應(yīng)液，還包括：至少一個加熱裝置(30)，設(shè)置在反應(yīng)槽(10)下部或底部外側(cè)，用于非接觸地對反應(yīng)槽(10)內(nèi)的反應(yīng)液加熱；測溫儀(40)，設(shè)置在反應(yīng)槽(10)上部出口附近，用于檢測反應(yīng)槽(10)溢流反應(yīng)液的溫度。采用本實施方案，有效地解決加熱時延問題，并使反應(yīng)槽(10)內(nèi)反應(yīng)液迅速升溫的同時溫度均勻分布。