一種材料處理方法及設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111074839.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN113862626A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-12-31 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113862626A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-12-31 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 宋永輝;王世寬 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州京昀知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 段曉玲;顧友 |
| 地址 | 214135江蘇省無(wú)錫市新吳區(qū)長(zhǎng)江南路35-312號(hào)廠房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種材料處理方法及設(shè)備，涉及材料技術(shù)領(lǐng)域。材料處理方法包括：將置于真空腔中的待處理材料移動(dòng)至第一預(yù)設(shè)位置；采用所述加熱裝置對(duì)所述待處理材料進(jìn)行加熱，所述加熱裝置位于所述真空腔內(nèi)；將加熱完成后的所述待處理材料移動(dòng)至第二預(yù)設(shè)位置；采用所述冷卻裝置對(duì)加熱完成后的所述待處理材料進(jìn)行冷卻，所述冷卻裝置位于所述真空腔內(nèi)。本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)在同一個(gè)真空腔內(nèi)對(duì)材料進(jìn)行熱處理和冷處理，并能夠?qū)崽幚砗蟮牟牧峡焖俳禍?，以保證磁控濺射的成膜質(zhì)量。 |
