一種提高氧化釩沉積均勻度的載片臺(tái)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122806544.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN216378351U 公開（公告）日 2022-04-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN216378351U 申請(qǐng)公布日 2022-04-26
分類號(hào) C23C14/08（2006.01）I;C23C14/22（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 宋永輝;王世寬;徐偉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無錫尚積半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 江蘇智天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 陳文艷
地址 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)長(zhǎng)江南路35-312號(hào)廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種提高氧化釩沉積均勻度的載片臺(tái)，應(yīng)用在物理氣相沉積領(lǐng)域，其技術(shù)方案要點(diǎn)是：包括真空筒和設(shè)置在真空筒內(nèi)的載片組件，載片組件包括載片盤，載片盤的上表面設(shè)置有多個(gè)用于氧化釩沉積的襯底，載片盤的下方疊設(shè)有加熱盤，加熱盤上對(duì)應(yīng)多個(gè)襯底的位置設(shè)置有多個(gè)加熱腔體，多個(gè)加熱腔體內(nèi)設(shè)置有用于對(duì)襯底加熱的電熱輻射板，具有的技術(shù)效果是：通過在襯底的下方加入電熱輻射板，同時(shí)配合加熱腔體以及聚熱腔體，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)襯底進(jìn)行更具針對(duì)性的加熱，同時(shí)其受熱更加均勻，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)氧化釩粒子均勻快速地在襯底上沉積。