一種提高氧化釩沉積均勻度的載片臺

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122806544.5 申請日 -
公開（公告）號 CN216378351U 公開（公告）日 2022-04-26
申請公布號 CN216378351U 申請公布日 2022-04-26
分類號 C23C14/08（2006.01）I;C23C14/22（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 宋永輝;王世寬;徐偉 申請（專利權(quán)）人 無錫尚積半導體科技有限公司
代理機構(gòu) 江蘇智天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 陳文艷
地址 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)長江南路35-312號廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種提高氧化釩沉積均勻度的載片臺，應用在物理氣相沉積領域，其技術(shù)方案要點是：包括真空筒和設置在真空筒內(nèi)的載片組件，載片組件包括載片盤，載片盤的上表面設置有多個用于氧化釩沉積的襯底，載片盤的下方疊設有加熱盤，加熱盤上對應多個襯底的位置設置有多個加熱腔體，多個加熱腔體內(nèi)設置有用于對襯底加熱的電熱輻射板，具有的技術(shù)效果是：通過在襯底的下方加入電熱輻射板，同時配合加熱腔體以及聚熱腔體，可以實現(xiàn)對襯底進行更具針對性的加熱，同時其受熱更加均勻，進而實現(xiàn)氧化釩粒子均勻快速地在襯底上沉積。