一種晶圓的檢測方法、濺射設備及計算機可讀存儲介質
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210085641.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114496853A | 公開(公告)日 | 2022-05-13 |
申請公布號 | CN114496853A | 申請公布日 | 2022-05-13 |
分類號 | H01L21/67(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 萬燕清;解巖;蔡浩杰 | 申請(專利權)人 | 無錫尚積半導體科技有限公司 |
代理機構 | 蘇州京昀知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 214135江蘇省無錫市新吳區(qū)長江南路35-312號廠房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種晶圓的檢測方法、濺射設備及計算機可讀存儲介質,涉及半導體技術領域。晶圓的檢測方法包括:控制傳送手臂拿取位于上料腔中的晶圓;控制位于上料腔上方的傳感器的發(fā)射端向下發(fā)射檢測信號;判斷是否接收到傳感器發(fā)出的偏移信號,偏移信號由傳感器生成并發(fā)出,當發(fā)射端發(fā)出檢測信號后的預設時間間隔內,位于上料腔下方的傳感器的接收端未接收到檢測信號時,傳感器生成偏移信號;若接收到偏移信號,則判定晶圓發(fā)生偏移,并控制濺射設備的報警裝置發(fā)出警報信號。通過本發(fā)明,能夠對上料腔中的晶圓位置進行檢測,使用戶及時地獲取到晶圓偏移的信息。 |
