反向電壓40V或60V橋式整流電路的集成制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010166234.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111244037A | 公開(公告)日 | 2020-06-05 |
申請公布號 | CN111244037A | 申請公布日 | 2020-06-05 |
分類號 | H01L21/8222(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張志向;鄧春茂 | 申請(專利權(quán))人 | 天水天光半導(dǎo)體有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 蘭州錦知源專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 天水天光半導(dǎo)體有限責(zé)任公司 |
地址 | 741000甘肅省天水市秦州區(qū)環(huán)城西路7號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明是一種反向電壓40V或60V橋式整流電路的集成制作方法,步驟為:a、襯底硅片清洗b、初始氧c、埋層光d、注入砷e、砷退火f、漂片g、清洗:h、初始氧化i、下隔離光刻j、注入硼,k、下隔離推結(jié)m、漂片n、清洗o、外延,P、襯底硅片清洗Q、初始氧化R、上隔離光刻T、硼擴(kuò)散U、隔離擴(kuò)散V、漂硼硅玻璃W、清洗X、氧化Y、N+光刻Z、清洗AA、磷擴(kuò)散BB、磷再擴(kuò)散CC、P+環(huán)光刻DD、硼離子注入EE、退火FF、引線孔光刻GG、清洗HH、Ni勢壘金屬蒸發(fā)II、硅化物形成JJ、Ni硅化物腐LL、正面金屬Al蒸發(fā)MM、金屬反刻。優(yōu)點:采用這種工藝電路一致性好,封裝體積小,封裝良率高。?? |
