一種半導(dǎo)體芯片正面焊接金屬結(jié)構(gòu)的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010361867.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111627826A | 公開(公告)日 | 2020-09-04 |
申請公布號 | CN111627826A | 申請公布日 | 2020-09-04 |
分類號 | H01L21/60(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王元之;張志向 | 申請(專利權(quán))人 | 天水天光半導(dǎo)體有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 成都弘毅天承知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 天水天光半導(dǎo)體有限責(zé)任公司 |
地址 | 741000甘肅省天水市秦州區(qū)環(huán)城西路7號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體芯片正面焊接金屬結(jié)構(gòu)的方法,屬于半導(dǎo)體集成電路及分立器件加工技術(shù)領(lǐng)域,該方法包括的步驟有:a、襯底硅片清洗;b、Ti?W金屬濺射處理;c、蒸發(fā)金屬Al,本發(fā)明采用兩種清洗液先后處理硅片使其潔凈化,有利于Ti?W金屬濺射處理,能提高Ti?W金屬層的粘附性;在蒸發(fā)Al前Ti?W金屬濺射處理,能夠避免蒸發(fā)Al對器件的損傷,防止金屬Al電遷移到器件造成器件早期失效,提高了晶片的合格率。?? |
