等離子弧光氮化涂層復(fù)合設(shè)備及氮化涂層連續(xù)工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201010101101.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN102134706A 公開（公告）日 2011-07-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN102134706A 申請(qǐng)公布日 2011-07-27
分類號(hào) C23C14/54(2006.01)I;C23C8/36(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 于寶海;于傳躍;盛重春;陳子宇 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 沈陽華俄科技發(fā)展有限公司
代理機(jī)構(gòu) 沈陽科威專利代理有限責(zé)任公司 代理人 王勇
地址 110165 遼寧省沈陽市沈北新區(qū)輝山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)輝山大街123-1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種等離子弧光氮化涂層復(fù)合設(shè)備及氮化涂層連續(xù)工藝，所要解決的問題是：輝光離子氮化的工件表面有輕微氧化且氮化時(shí)間長，會(huì)影響超硬膜的結(jié)合力和涂層質(zhì)量，加工時(shí)間延長。本發(fā)明的要點(diǎn)是：等離子弧光氮化裝置的陰極筒設(shè)置在真空室的上面，且與真空室連通，聚焦線圈設(shè)置在陰極筒的外面，氣體混合室的出口和熱絲伸入陰極筒里，等離子弧光電源上的轉(zhuǎn)換開關(guān)的陽極和陰極分別接在真空室壁和陰極筒上，轉(zhuǎn)換開關(guān)的另一陰極接在涂層裝置的陰極弧光靶上。本發(fā)明的效果是：氮化涂層連續(xù)進(jìn)行，降低成本。