一種用于高能束加工的設(shè)備及二次電子探測方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110612421.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113325017A 公開（公告）日 2021-08-31
申請公布號 CN113325017A 申請公布日 2021-08-31
分類號 G01N23/22（2018.01）I;G01N23/225（2018.01）I;B23K31/02（2006.01）I;B23K37/00（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 尹伊;于楠;徐方達;秦劍;毛博陽;勇秋羽;支鏡任 申請（專利權(quán)）人 蘇州融速智造科技有限公司
代理機構(gòu) 蘇州智品專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 豐葉
地址 215000江蘇省蘇州市太倉市科教新城子岡路27號6號樓9樓901-6室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于高能束加工的設(shè)備，包括數(shù)控平臺和焊艙，數(shù)控平臺的上方架設(shè)有高能束發(fā)生器，高能束發(fā)生器的下端發(fā)射口處設(shè)有聚焦系統(tǒng)，數(shù)控平臺上固定有下端二次電子收集器，下端二次電子收集器與高能束發(fā)生器之間設(shè)有上端二次電子收集器，上端二次電子收集器和下端二次電子收集器均設(shè)有多塊采集板和定值電阻，上端二次電子收集器和下端二次電子收集器均電性連接有示波器，示波器電性連接有控制器，控制器電性連接有顯示器，示波器和控制器均電性連接有電源。本發(fā)明的有益效果是：實現(xiàn)對加工工件上、下表面二次電子方向與分布的探測，判斷高能束能量密度強弱，保障加工過程的監(jiān)測，提高加工良品率，為實時控制高能束參數(shù)提供依據(jù)。