一種LED芯片的外延結構
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202120408080.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214254447U | 公開(公告)日 | 2021-09-21 |
申請公布號 | CN214254447U | 申請公布日 | 2021-09-21 |
分類號 | H01L33/06(2010.01)I;H01L33/14(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉恒山;吳永勝;解向榮;曹鑫;唐允清;馬野 | 申請(專利權)人 | 福建兆元光電有限公司 |
代理機構 | 福州市博深專利事務所(普通合伙) | 代理人 | 唐燕玲 |
地址 | 350109福建省福州市閩侯縣南嶼鎮(zhèn)生物醫(yī)藥和機電產業(yè)園區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供了一種LED芯片的外延結構,包括襯底層、N型氮化鎵層、量子阱層、含銦的隔離層及P型氮化鎵層;所述N型氮化鎵層、所述量子阱層、所述隔離層及所述P型氮化鎵層由靠近所述襯底層至遠離所述襯底層的方向依次排布;本實用新型在量子阱層和P型氮化鎵層之間加入含銦的隔離層,銦能夠發(fā)揮類似表面活性劑的作用,增加材料在生長過程中的表面遷移能力,使得其下已生長完成的量子阱層中可能已經(jīng)產生的V型坑得到填充從而變小甚至填平,使得V型坑的數(shù)量減小及降低V型坑的深度,從而降低了V型坑帶來的量子阱層電阻值下降及錯位穿透的影響,提升了LED芯片的正向抗靜電能力。 |
