氣體處理設(shè)備以及氣體處理系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721894139.0 申請日 -
公開（公告）號 CN207822785U 公開（公告）日 2018-09-07
申請公布號 CN207822785U 申請公布日 2018-09-07
分類號 B01D53/78;B01D49/00 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 靳峰;陳紀(jì)良;嚴(yán)進(jìn)軍;崔洪峰 申請（專利權(quán)）人 濟(jì)南瑞東實(shí)業(yè)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 濟(jì)南瑞東實(shí)業(yè)有限公司
地址 250013 山東省濟(jì)南市高新區(qū)世紀(jì)財(cái)富中心A座918-A室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及化工領(lǐng)域，公開了一種氣體處理設(shè)備以及氣體處理系統(tǒng)，該氣體處理設(shè)備包括第一罐體(1)、第二罐體(2)和供液部，第一罐體(1)上設(shè)置有第一供液口、用于通入有害氣體的第一進(jìn)氣口以及設(shè)置在第一罐體(1)頂部的第一出氣口，第二罐體(2)設(shè)置有第二供液口和第二進(jìn)氣口，第一出氣口與第二進(jìn)氣口連通，其中，第一罐體(1)內(nèi)設(shè)置有噴射泵(4)，第二罐體(2)上設(shè)置有以第二罐體(2)的中心線為軸線的螺旋狀的流道(5)，第二進(jìn)氣口的位置低于流道(5)，第二供液口的位置高于流道(5)，通過第二供液口進(jìn)入第二罐體(2)的液體能夠沿流道(5)流動。本申請?zhí)峁┑臍怏w處理設(shè)備能夠?qū)怏w實(shí)現(xiàn)良好的凈化效果。