真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201320510144.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN203419979U 公開（公告）日 2014-02-05
申請(qǐng)公布號(hào) CN203419979U 申請(qǐng)公布日 2014-02-05
分類號(hào) C23C14/35(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 馮新偉 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 常州津通光電技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 常州市維益專利事務(wù)所 代理人 王凌霄
地址 213164 江蘇省常州市武進(jìn)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西湖路8號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置，包括垂直設(shè)置的冷卻基座、貼合安裝在冷卻基座側(cè)表面的永磁鐵，所述冷卻基座上設(shè)有滑軌，永磁鐵與冷卻基座相貼的側(cè)表面具有與滑軌相配的滑槽。本實(shí)用新型通過(guò)移動(dòng)永磁鐵位置，可均勻地耗用靶材的各個(gè)部分，充分發(fā)揮靶材的最大使用效率，降低成本，確保靶材消耗的均勻性。