真空鍍膜雙路供氣裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201320510088.2 申請日 -
公開（公告）號 CN203421491U 公開（公告）日 2014-02-05
申請公布號 CN203421491U 申請公布日 2014-02-05
分類號 F17C7/00(2006.01)I;F17C13/02(2006.01)I;F17C13/04(2006.01)I 分類 氣體或液體的貯存或分配;
發(fā)明人 馮新偉 申請（專利權(quán)）人 常州津通光電技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 常州市維益專利事務(wù)所 代理人 王凌霄
地址 213164 江蘇省常州市武進高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西湖路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種真空鍍膜雙路供氣裝置，包括氣瓶，所述氣瓶包括出氣口管路連接的第一氣瓶和第二氣瓶，在連接第一氣瓶和第二氣瓶的管路上，分別設(shè)有控制第一氣瓶供氣的第一電磁閥、控制第二氣瓶供氣的第二電磁閥，第一電磁閥和第二電磁閥之間的管路上連接有通向真空鍍膜設(shè)備的供氣管，第一電磁閥和第二電磁閥內(nèi)均設(shè)有可檢測氣體壓力的壓力傳感器，第一電磁閥和第二電磁閥線路連接有控制器。本實用新型通過第一氣瓶和第二氣瓶的自動切換，保證了真空鍍膜設(shè)備用氣的穩(wěn)定性，避免了由于氣瓶內(nèi)氣體容量或氣壓過低而對鍍膜質(zhì)量帶來的不利影響。