一種低電阻率微硼摻雜旋轉(zhuǎn)濺射硅靶材及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510180484.7 申請日 -
公開（公告）號 CN104775097B 公開（公告）日 2017-04-12
申請公布號 CN104775097B 申請公布日 2017-04-12
分類號 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C4/134(2016.01)I;C23C4/04(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 羅永春;曾墩風;羅建冬;王志強 申請（專利權(quán)）人 廈門映日新材料科技有限公司
代理機構(gòu) 廈門市精誠新創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 方惠春
地址 241000 安徽省蕪湖市蕪湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)汽經(jīng)一路5號1-005
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種低電阻率微硼摻雜旋轉(zhuǎn)濺射硅靶材及其制備方法。其由0.03?0.5wt％的硼、99.4wt％?99.9wt％的硅及雜質(zhì)制備得到。本發(fā)明還保護了所述微硼濺射旋轉(zhuǎn)硅靶材的制備方法。本發(fā)明通過在硅旋轉(zhuǎn)靶材材料的硅中添加硼，并引進新的生產(chǎn)工藝，得到的產(chǎn)品電阻率更低，結(jié)合強度高，極大的提高了產(chǎn)品性能，可廣泛用于液晶顯示玻璃鍍膜、光學鍍膜等領(lǐng)域，對行業(yè)的進步有極大的推動作用。