一種高密度高純度濺射旋轉(zhuǎn)銀靶材的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510553247.0 申請日 -
公開（公告）號 CN105039920A 公開（公告）日 2015-11-11
申請公布號 CN105039920A 申請公布日 2015-11-11
分類號 C23C14/34(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 羅永春;曾墩風;張斐;石煜 申請（專利權）人 廈門映日新材料科技有限公司
代理機構 廈門市精誠新創(chuàng)知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 廈門映日新材料科技有限公司;蕪湖映日科技有限公司
地址 361000 福建省廈門市同安區(qū)蘇厝路73號1#廠房第一層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高密度高純度濺射旋轉(zhuǎn)銀靶材的制備方法。首先將不銹鋼按照客戶要求加工好，然后用棕剛玉進行噴砂和用Cu-Al絲進行打底,打底層厚度為0.5毫米。再用碳化鎢合金制作的拉瓦爾噴管對銀粉進行噴涂，碳化鎢設計的噴管結(jié)構如圖1，銀粉為球形粉末，粒度為5-45微米，氮氣氣壓為3-5Mpa，氮氣加熱溫度為400-500℃，送粉轉(zhuǎn)速為6RPM。通過拉瓦爾噴管對粒子進行2次加速，將粒子速度提高到600-800m/s。采用本發(fā)明冷噴涂制備銀靶材，具有工藝簡單和組織致密的優(yōu)點，靶材相對密度可以達到99.8%以上，靶材內(nèi)部晶粒組織均勻細小，無缺陷組織。而且沉積效率高，降低生產(chǎn)成本。