低壓滲碳滲層碳濃度分布控制系統(tǒng)及其控制方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201010571511.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102063110A | 公開(公告)日 | 2011-05-18 |
申請公布號 | CN102063110A | 申請公布日 | 2011-05-18 |
分類號 | G05B19/418(2006.01)I;C23C8/20(2006.01)I | 分類 | 控制;調(diào)節(jié); |
發(fā)明人 | 潘健生;錢初鈞;沈玉明;顧劍鋒;孔銘 | 申請(專利權(quán))人 | 上海旗春熱處理有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海交達專利事務(wù)所 | 代理人 | 上海交通大學;上海旗春熱處理有限公司;上海汽車變速器有限公司 |
地址 | 200240 上海市閔行區(qū)東川路800號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種金屬熱處理技術(shù)領(lǐng)域的低壓滲碳滲層碳濃度分布控制系統(tǒng)及其控制方法,該系統(tǒng)包括:低壓滲碳爐、控制器、壓力傳感器、熱電偶、氮氣調(diào)節(jié)閥、氮氣輸入管、滲碳氣體調(diào)節(jié)閥、滲碳氣體輸入管、真空系統(tǒng)和抽氣管,本發(fā)明具有用滲層濃度分布數(shù)值模擬自動優(yōu)化低壓脈沖工藝參數(shù)并實現(xiàn)控制的功能,滲碳氣體調(diào)節(jié)閥根據(jù)控制器的指令執(zhí)行通/斷動作控制滲碳段時間和擴散段時間,實現(xiàn)滲層濃度分布的正確控制。能在保持高的滲碳速度的同時,避免表層碳化物超差,準確控制表面碳濃度,滲層深度和濃度分布,減少爐內(nèi)積聚碳黑。并擺脫了對氣體成分傳感器的依賴,具有配置簡化、易于實施、可靠性高、易于維護的優(yōu)點。 |
