一種監(jiān)測晶片生長薄膜特性的裝置及其用途
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201410036443.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN104807495B | 公開(公告)日 | 2017-12-01 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN104807495B | 申請(qǐng)公布日 | 2017-12-01 |
分類號(hào) | G01D21/02(2006.01)I | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 馬鐵中;嚴(yán)冬;王林梓;劉健鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 昂坤視覺(北京)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京華沛德權(quán)律師事務(wù)所 | 代理人 | 北京智朗芯光科技有限公司;昂坤視覺(北京)科技有限公司 |
地址 | 100191 北京市昌平區(qū)昌平路97號(hào)新元科技園B座503室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種監(jiān)測晶片生長薄膜特性的裝置及其用途,屬于半導(dǎo)體材料無損檢測領(lǐng)域。該裝置包括第一激光光源、第二激光光源、第一二相色鏡、分束鏡、第二二相色鏡、第一探測器、第二探測器、位置探測器、腔室、狹縫窗口、樣品托盤和轉(zhuǎn)軸。該裝置及其用途能夠集成實(shí)現(xiàn)待測晶片反射率、溫度和應(yīng)力三個(gè)特性參數(shù)集成監(jiān)測。 |
