一種硅兼容雙極性異質(zhì)結(jié)紫外-近紅外雙波段光電探測(cè)器及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010931651.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112002781B | 公開(公告)日 | 2021-08-17 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112002781B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-17 |
分類號(hào) | H01L31/101;H01L31/109;H01L31/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 于永強(qiáng);徐艷;宋龍梅;夏宇;許高斌;馬淵明;陳興 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 合肥廬陽(yáng)科技創(chuàng)新集團(tuán)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 安徽省合肥新安專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 盧敏 |
地址 | 230001 安徽省合肥市廬陽(yáng)區(qū)亳州路街道濉溪路335號(hào)藍(lán)鉆尚界B座6樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種硅兼容雙極性異質(zhì)結(jié)紫外?近紅外雙波段光電探測(cè)器及其制備方法,該探測(cè)器的結(jié)構(gòu)為:在單晶硅襯底的上、下表面皆設(shè)置有SiO2絕緣層;在各層SiO2絕緣層的中心皆形成一盲孔;在上層盲孔內(nèi)沉積有二維2H?MoSe2材料,在下層盲孔內(nèi)沉積有二維1T?WS2材料,兩種材料與單晶硅襯底形成2H?MoSe2/Si/1T?WS2雙極性異質(zhì)結(jié);上層二維2H?MoSe2材料和下層二維1T?WS2材料外表面分別設(shè)置有頂電極和底電極。本發(fā)明所制備的探測(cè)器具有在紫外和近紅外雙波段的窄帶響應(yīng),且響應(yīng)速度快、易集成。 |
