一種增強(qiáng)型異質(zhì)金屬柵AlGaN/GaN MOS-HEMT器件
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921823837.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN210073863U | 公開(公告)日 | 2020-02-14 |
申請公布號 | CN210073863U | 申請公布日 | 2020-02-14 |
分類號 | H01L29/423;H01L29/06;H01L29/417;H01L29/778;H01L21/28;H01L21/335 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李邁克 | 申請(專利權(quán))人 | 中證博芯(重慶)半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 重慶中之信知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 中證博芯(重慶)半導(dǎo)體有限公司;中合博芯(重慶)半導(dǎo)體有限公司 |
地址 | 401520 重慶市合川區(qū)草街街道嘉合大道500號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種增強(qiáng)型異質(zhì)金屬柵AlGaN/GaN MOS?HEMT器件,包括:位于Al2O3襯底之上的AlN過渡層;位于所述AlN過渡層之上的多層緩沖結(jié)構(gòu);位于多層緩沖結(jié)構(gòu)之上的AlGaN阻擋層;位于所述AlGaN阻擋層之上的GaN帽層;位于所述第一GaN層之上且向上穿過所述AlGaN阻擋層以及GaN帽層的源極和漏極;位于所述GaN帽層、源極和漏極之上的柵極氧化層;位于所述柵極氧化層之上的異質(zhì)柵極結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型能夠提高溝道驅(qū)動電流,可對閾值電壓進(jìn)行靈活調(diào)整、能防止溝道載流子遷移率的惡化。 |
