一種光模塊光功率及消光比的調(diào)試方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010279293.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111555802A | 公開（公告）日 | 2020-08-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111555802A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-08-18 |
| 分類號(hào) | H04B10/079(2013.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 朱明貴 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 南京光通光電技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 顏盈靜 |
| 地址 | 211505江蘇省南京市六合區(qū)龍池街道虎躍路8號(hào)六合經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)科創(chuàng)園2號(hào)樓3層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種光模塊光功率及消光比的調(diào)試方法，所述方法通過調(diào)節(jié)數(shù)位電阻兩次，只需三步可將光模塊的光功率調(diào)整至需要規(guī)格內(nèi)，在光功率調(diào)節(jié)基礎(chǔ)上只需一步可將消光比調(diào)整至需要規(guī)格內(nèi)，本發(fā)明方法包括詳細(xì)的算法及流程，可以提升光模塊生產(chǎn)過程中光功率及消光比的調(diào)整速度，提高生產(chǎn)設(shè)備的利用率以及提升產(chǎn)線單位時(shí)間的光模塊的產(chǎn)量。?? |
