片上光放大器及其制造方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111477986.8 申請日 -
公開（公告）號 CN114217490A 公開（公告）日 2022-03-22
申請公布號 CN114217490A 申請公布日 2022-03-22
分類號 G02F1/39（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 周佩奇;肖希;王磊 申請（專利權(quán)）人 武漢郵電科學(xué)研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 高潔;張穎玲
地址 430074湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)關(guān)山街郵科院路88號1幢1-3層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請?zhí)峁┮环N片上光放大器及其制造方法，所述片上光放大器包括：襯底；氧化層，覆蓋在所述襯底上；波導(dǎo)層，位于所述氧化層上；增益介質(zhì)層，位于所述波導(dǎo)層內(nèi)，用于構(gòu)成使光場集中的狹縫結(jié)構(gòu)；其中，所述波導(dǎo)層的折射率大于所述增益介質(zhì)層的折射率。