片上光放大器及其制造方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111477986.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114217490A 公開(kāi)（公告）日 2022-03-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN114217490A 申請(qǐng)公布日 2022-03-22
分類(lèi)號(hào) G02F1/39（2006.01）I 分類(lèi) 光學(xué);
發(fā)明人 周佩奇;肖希;王磊 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 武漢郵電科學(xué)研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 高潔;張穎玲
地址 430074湖北省武漢市東湖新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)關(guān)山街郵科院路88號(hào)1幢1-3層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N片上光放大器及其制造方法，所述片上光放大器包括：襯底；氧化層，覆蓋在所述襯底上；波導(dǎo)層，位于所述氧化層上；增益介質(zhì)層，位于所述波導(dǎo)層內(nèi)，用于構(gòu)成使光場(chǎng)集中的狹縫結(jié)構(gòu)；其中，所述波導(dǎo)層的折射率大于所述增益介質(zhì)層的折射率。