一種薄膜型熔斷器及制造方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911074381.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN110828243A 公開（公告）日 2020-02-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN110828243A 申請(qǐng)公布日 2020-02-21
分類號(hào) H01H69/02;H01H85/041;H01H85/046 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 楊漫雪;鄧琪 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 南京隆特電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 張弛
地址 210049 江蘇省南京市棲霞區(qū)青馬路6號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種薄膜型熔斷器，包括基體、熔斷體、電極；所述熔斷體為金屬片形并貼合在基體上，熔斷體即便較為微型，基體也能夠作為熔斷體的支撐，使熔斷體的形狀加工易控制，可以精確控制熔體厚度和圖形，從而實(shí)現(xiàn)更小電流規(guī)格的熔斷器的制造。且制造該熔斷器的制造方法簡(jiǎn)單可行，通過簡(jiǎn)單薄膜工藝即可完成。