離子膜燒堿一次精制鹽水除硅鋁深度精制的裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921215660.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN211419589U | 公開（公告）日 | 2020-09-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211419589U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-09-04 |
| 分類號(hào) | C01D3/06(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 程雄 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 南京納億工程技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上?？剖⒅R(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 蔣亮珠 |
| 地址 | 211200江蘇省南京市溧水區(qū)永陽(yáng)鎮(zhèn)水保路18號(hào)1幢 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種離子膜燒堿一次精制鹽水除硅鋁深度精制的裝置，包括從上游往下游依次連接的中和反應(yīng)池(1)、沉淀池(2)、超濾單元(3)和泥水分離器(4)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型不改變現(xiàn)有一次鹽水精制工藝，不影響現(xiàn)有的生產(chǎn)，僅在現(xiàn)有的一次鹽水精制工序的最后增加深度精制單元，技改容易實(shí)施，且加入的精制劑量少且不會(huì)在精制鹽水中殘留，同時(shí)又可以可將硅鋁雜質(zhì)同時(shí)去除，操作的寬容度大。?? |
