一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121397844.6 申請日 -
公開（公告）號 CN216006011U 公開（公告）日 2022-03-11
申請公布號 CN216006011U 申請公布日 2022-03-11
分類號 C23C16/455（2006.01）I;C23C16/448（2006.01）I;C23C16/44（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林巍;羅雪;丁潔 申請（專利權(quán)）人 廈門中材航特科技有限公司
代理機構(gòu) 廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 盧麗紅
地址 361000福建省廈門市火炬高新區(qū)軟件園創(chuàng)新大廈C區(qū)3F-A484
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備，包括安置在設(shè)備內(nèi)部的氣氛反應(yīng)室及基體沉積室，氣氛反應(yīng)室與基體沉積室之間設(shè)有一分氣組件，在氣氛反應(yīng)室內(nèi)混合、反應(yīng)完成后的沉積氣氛經(jīng)分氣組件進(jìn)行分氣后均勻分散到基體沉積室，基體沉積室的上端連通有多個真空管，真空管的外端連通至真空泵，各真空管上分別設(shè)有閥門，各閥門設(shè)有控制閥門開閉的執(zhí)行器，各執(zhí)行器連接至控制器。本實用新型可使得基體表面均勻沉積，提高基體的表面沉積質(zhì)量，降低生產(chǎn)成本。