一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備及沉積方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110695833.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113322446A 公開（公告）日 2021-08-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN113322446A 申請(qǐng)公布日 2021-08-31
分類號(hào) C23C16/455（2006.01）I;C23C16/448（2006.01）I;C23C16/44（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林巍;羅雪;丁潔 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廈門中材航特科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 盧麗紅
地址 361000福建省廈門市火炬高新區(qū)軟件園創(chuàng)新大廈C區(qū)3F-A484
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備，包括安置在設(shè)備內(nèi)部的氣氛反應(yīng)室及基體沉積室，氣氛反應(yīng)室與基體沉積室之間設(shè)有一分氣組件，在氣氛反應(yīng)室內(nèi)混合、反應(yīng)完成后的沉積氣氛經(jīng)分氣組件進(jìn)行分氣后均勻分散到基體沉積室，基體沉積室的上端連通有多個(gè)真空管，真空管的外端連通至真空泵，各真空管上分別設(shè)有閥門，各閥門設(shè)有控制閥門開閉的執(zhí)行器，各執(zhí)行器連接至控制器。本發(fā)明可使得基體表面均勻沉積，提高基體的表面沉積質(zhì)量，降低生產(chǎn)成本。