一種除銅裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022114825.X 申請日 -
公開（公告）號 CN214060669U 公開（公告）日 2021-08-27
申請公布號 CN214060669U 申請公布日 2021-08-27
分類號 C25D3/12（2006.01）I;C25D21/18（2006.01）I;C25D21/12（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 余科淼;郭立功;高智敏;王磊 申請（專利權(quán)）人 江西省江銅銅箔科技股份有限公司
代理機構(gòu) 南昌金軒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 楊玉芳
地址 330000江西省南昌市南昌高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)高新大道1129號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種除銅裝置，涉及電鍍技術(shù)領(lǐng)域，包括除銅槽，除銅槽的內(nèi)部設(shè)置有陽極板和陰極板，除銅槽通過進液管通入有硫酸鎳電鍍液；除銅槽固定在底板上端面，底板頂部兩側(cè)均焊接有支撐架，支撐架頂部焊接有放置板，放置板底部焊接有箱體，箱體頂部固定有氣缸，氣缸活塞桿固定連接活動板，活動板兩側(cè)固定連接有滑套；滑套滑動連接有滑桿，活動板底部固定連接有定位桿，定位桿的底部固定連接有槽蓋。本實用新型利用銅與鎳的析出電位的不同，通過對陽極板通電，使得硫酸鎳電鍍液中的多余的銅離子獲得電子后在陰極板析出，實現(xiàn)去除硫酸鎳電鍍液中的多余銅離子，既保證了硫酸鎳電鍍液中銅離子的濃度維持穩(wěn)定，又保證了硫酸鎳電鍍液的潔凈度。