一種制備納米級(jí)金屬網(wǎng)格透明導(dǎo)電薄膜的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510386412.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN104966588B 公開(kāi)（公告）日 2017-01-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN104966588B 申請(qǐng)公布日 2017-01-25
分類號(hào) H01B13/00(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 王振中 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廈門變格新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 361006 福建省廈門市火炬高新區(qū)火炬園新豐路178號(hào)二樓A201室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種制備納米級(jí)金屬網(wǎng)格透明導(dǎo)電薄膜的方法，包括如下步驟：1)在一基板上形成一層金屬薄膜；2)在所述的金屬薄膜上涂覆一層紫外光敏感的光刻膠，其中光刻膠中隨機(jī)均勻分散有納米線，其中納米線對(duì)紫外光不透明；3)平行紫外光照射光刻膠表面，納米線遮蓋區(qū)域下的光刻膠未被曝光，而未被納米線遮蓋區(qū)域下的光刻膠被曝光，顯影后，光刻膠形成隨機(jī)網(wǎng)格；4)刻蝕掉曝光區(qū)域的光刻膠和金屬膜，得到納米級(jí)隨機(jī)排列的金屬網(wǎng)格，其中金屬網(wǎng)格線相互連接，形成透明的導(dǎo)電薄膜。本發(fā)明利用納米線作為掩模，克服了在大尺寸掩模板上制作納米級(jí)圖形的困難，實(shí)現(xiàn)了納米級(jí)的隨機(jī)網(wǎng)格的圖形化，工藝簡(jiǎn)潔，有利于卷對(duì)卷大面積量產(chǎn)。