一種高穩(wěn)定性薄膜監(jiān)控方法及鍍膜裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110188380.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112553589B 公開（公告）日 2021-06-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN112553589B 申請(qǐng)公布日 2021-06-11
分類號(hào) C23C14/54;C23C14/30;C23C14/08;C23C14/10 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 林兆文 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海米蜂激光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京清大紫荊知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 李思瓊;馮振華
地址 200136 上海市浦東新區(qū)泥城鎮(zhèn)飛渡路55號(hào)3幢廠房A、B單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種高穩(wěn)定性薄膜監(jiān)控方法及鍍膜裝置，該方法包括：在鍍膜機(jī)傘架上的至少三點(diǎn)位置設(shè)置膜厚監(jiān)控系統(tǒng)，得到至少三個(gè)瞬時(shí)膜厚數(shù)據(jù)；將該至少三個(gè)瞬時(shí)膜厚數(shù)據(jù)代入膜厚分布公式中，求得材料蒸發(fā)特性參數(shù)n；通過(guò)監(jiān)控該材料蒸發(fā)特性參數(shù)n值的變化，對(duì)薄膜厚度進(jìn)行監(jiān)控并實(shí)時(shí)修正。本發(fā)明能夠在薄膜批量生產(chǎn)過(guò)程中，得到均勻性良好、重復(fù)性高，穩(wěn)定性好的光學(xué)薄膜，有效提高高精度鍍膜的良品率。