一種透雷達波柔性基底紅外濾光膜及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011226958.4 申請日 -
公開（公告）號 CN112030115B 公開（公告）日 2021-04-09
申請公布號 CN112030115B 申請公布日 2021-04-09
分類號 C23C14/30(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/26(2006.01)I;C23C14/20(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 原清海;王奔;林兆文 申請（專利權）人 上海米蜂激光科技有限公司
代理機構 北京清大紫荊知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 李思瓊;馮振華
地址 200136上海市浦東新區(qū)泥城鎮(zhèn)飛渡路55號3幢廠房A、B單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種透雷達波柔性基底紅外濾光膜及其制備方法。該柔性基底紅外濾光膜基本膜系結構為：Sub|1.2(0.5HL0.5H)10 L(0.5HL0.5H)10 L|Air；其中，Sub為聚酰亞胺柔性基底層，H代表為高折射率材料Ge層，L代表為低折射率材料ZnS層，Air為空氣層。該透射雷達波的紅外濾光膜的基底異于傳統(tǒng)光學基底，該柔性基底一側的光學薄膜的附著力強，可以實現(xiàn)貼敷與卷繞，拓寬了使用范圍，并且實現(xiàn)3～5μm低發(fā)射率，10.6μm高發(fā)射率，并可透射雷達波，并且本發(fā)明的制備方法有效抑制了柔性基底在彎折條件下脫膜情況的發(fā)生，提高了薄膜的附著力。??