一種聚甲基丙烯酸甲酯基底介質(zhì)增透膜及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011408757.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112553585A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-03-26 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112553585A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-26 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/22(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/10(2006.01)I;G02B1/115(2015.01)I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 謝雨江;原清海;林兆文;王奔 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 上海米蜂激光科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京清大紫荊知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李思瓊;馮振華 |
| 地址 | 200136上海市浦東新區(qū)泥城鎮(zhèn)飛渡路55號(hào)3幢廠(chǎng)房A、B單元 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種聚甲基丙烯酸甲酯基底介質(zhì)增透膜及其制備方法，該增透膜的膜系結(jié)構(gòu)為：Sub/M/H/L/A；其中，Sub為PMMA基底層，M為Al2O3過(guò)渡層，H為T(mén)a2O5高折射率膜層，L為SiO2低折射率膜層，A為空氣層。該制備方法中利用磁控濺射方式制備PMMA基底上的過(guò)渡層，使過(guò)渡層實(shí)現(xiàn)了基底與后續(xù)功能層的穩(wěn)定連接，同時(shí)利用電子束蒸發(fā)、離子束輔助方式制備功能層，極大地改善了后續(xù)功能層的應(yīng)力狀態(tài)，有效的解決了PMMA基底與膜層熱膨脹系數(shù)差異導(dǎo)致的脫膜、機(jī)械強(qiáng)度低等問(wèn)題。本發(fā)明制備的PMMA基底增透膜能夠在940nm波段獲得極高的透過(guò)率，具有可操作性強(qiáng)、制備工藝重復(fù)性好、產(chǎn)品質(zhì)量?jī)?yōu)良等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于光電系統(tǒng)等領(lǐng)域。?? |
