一種高穩(wěn)定性薄膜監(jiān)控方法及鍍膜裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110188380.6 申請日 -
公開（公告）號 CN112553589A 公開（公告）日 2021-06-11
申請公布號 CN112553589A 申請公布日 2021-06-11
分類號 C23C14/54;C23C14/30;C23C14/08;C23C14/10 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鮑剛華;林兆文 申請（專利權）人 上海米蜂激光科技有限公司
代理機構 北京清大紫荊知識產權代理有限公司 代理人 李思瓊;馮振華
地址 200136 上海市浦東新區(qū)泥城鎮(zhèn)飛渡路55號3幢廠房A、B單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種高穩(wěn)定性薄膜監(jiān)控方法及鍍膜裝置，該方法包括：在鍍膜機傘架上的至少三點位置設置膜厚監(jiān)控系統(tǒng)，得到至少三個瞬時膜厚數據；將該至少三個瞬時膜厚數據代入膜厚分布公式中，求得材料蒸發(fā)特性參數n；通過監(jiān)控該材料蒸發(fā)特性參數n值的變化，對薄膜厚度進行監(jiān)控并實時修正。本發(fā)明能夠在薄膜批量生產過程中，得到均勻性良好、重復性高，穩(wěn)定性好的光學薄膜，有效提高高精度鍍膜的良品率。