一種新型寬帶增透膜及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011266720.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112376021A 公開（公告）日 2021-02-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN112376021A 申請(qǐng)公布日 2021-02-19
分類號(hào) C23C14/30;C23C14/06;C23C14/18;G02B1/116 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鮑剛?cè)A;原清海;林兆文;謝雨江;王奔 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海米蜂激光科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京清大紫荊知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 李思瓊;馮振華
地址 200136 上海市浦東新區(qū)泥城鎮(zhèn)飛渡路55號(hào)3幢廠房A、B單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種新型寬帶增透膜及其制備方法，該增透膜包括基底層，所述基底層上由內(nèi)向外依次包括第一層Cu膜層和第二層MgF2膜層，其物理厚度依次為2.0?3.5nm和70.0?80.0nm。本發(fā)明通過引入金屬層來降低整個(gè)膜層厚度，減少膜層數(shù)，提高制備的生產(chǎn)效率；并且改善增透膜的光譜特性，使光譜波紋減少，從而提高薄膜的重復(fù)性和穩(wěn)定性。