一種塑料基底硬質(zhì)減反射膜及其鍍膜方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | 2020115136866 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112251720A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-01-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112251720A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-22 |
| 分類號(hào) | C23C14/30(2006.01)I; | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 原清海;王奔;謝雨江 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海米蜂激光科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京清大紫荊知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李思瓊;馮振華 |
| 地址 | 200136上海市浦東新區(qū)泥城鎮(zhèn)飛渡路55號(hào)3幢廠房A、B單元 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種塑料基底硬質(zhì)減反射膜及其鍍膜方法，該鍍膜方法包括以光學(xué)塑料為基底，交替沉積TiO2和SiON；TiO2采用電子束蒸發(fā)沉積，SiON采用磁控濺射沉積。該反射膜的鍍膜裝置包括真空腔體，真空腔體底部設(shè)置電子束蒸發(fā)鍍膜裝置，還包括設(shè)置于真空腔體外的旋轉(zhuǎn)裝置和磁控濺射鍍膜裝置，磁控濺射鍍膜裝置與旋轉(zhuǎn)裝置固定連接，旋轉(zhuǎn)裝置驅(qū)動(dòng)磁控濺射鍍膜裝置做轉(zhuǎn)動(dòng)升降式運(yùn)動(dòng)，使磁控濺射鍍膜裝置能夠移入和/或移出真空腔體。本發(fā)明的鍍膜方法能夠制得以光學(xué)塑料為基底的高硬度、低反射率高透射率的硬質(zhì)減反射膜。?? |
